研究施設の現状と将来計画 313
8-5 装置開発室
装置開発室は，分子科学分野の研究者と協力し最先端の研究に必要となる装置や技術を開発すること，日常の実験 研究において必要となる装置や部品類の設計・製作に迅速に対応する，という二つの役割を担っている。製作依頼件 数は年間 300 件近くに及ぶ。新しい装置の開発では技術職員が研究者と密接に連携し，また，日常の実験研究で必要 となる工作依頼などについては，機械加工技能を持つ技術支援員が中心となり，対応している。
分子研外部からの製作・開発依頼を受け入れる「施設利用」を２００５年度より分子研の共同利用の一環として開始し， 年間 10 件程度を受け入れている。これを本格的に運用するにあたって，受入れ方式を見直し，分子科学の発展への 寄与，装置開発室の技術力向上への寄与，装置開発室の保有する技術の特徴を活かせること，の３点を考慮し，受入 れに関する審査を行っている。
装置開発室は大きく機械工作を担当するメカトロニクスセクションと電子回路工作を担当するエレクトロニクスセ クションに分かれている。メカトロニクスセクションでは従来の機械加工技術の超精密化に向けた取り組みに加え， 近年では，フォトリソグラフィなど非機械加工による超微細加工技術の習得に取り組んでいる。エレクトロニクスセ クションでは，高速化や多機能化が進む電子回路の需要にこたえるために，プログラマブル論理回路素子を用いたカ スタム IC の開発，東京大学大規模集積システム設計教育センター（V D E C ）を利用したアナログ集積回路の開発技術 の導入に取り組んでいる。
装置開発室の業務の基盤である依頼業務，すなわち，分子研内外からの装置の製作や開発の依頼に応える業務に加 えて，装置開発室職員が技術力向上を目指して自主的に技術開発を行うような取り組みを「将来技術開発プロジェク ト」と位置付け，研究の現場における需要を意識しつつ，装置開発室で保有する技術をさらに伸ばす仕組みとして展 開していきたいと考えている。
装置開発室の設備については，創設から３０年が経過し，老朽化，性能不足，精度低下などが進み，設備の更新は 急務となっている。２０１３年度には，ナノテクノロジープラットフォーム事業の一環として，マイクロストラクチャー 製作・評価のための先進設備を導入することができた。今後も，装置開発室の将来計画・将来像の検討を進めながら， その方向性を強く意識しつつ，日常の実験研究を支えるための基盤的設備，先端技術習得のための先進設備，双方の 更新・導入を進める。また，他機関の保有する設備の利用も積極的に検討する。これまでの利用経験から，利用申請 などの手続きに時間がかかるなどの問題も明らかになってきており，効果的な利用・活用の方法を調査・検討する。
